10微米制程 - 维基百科,自由的百科全书
半导体器件制造 |
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金屬氧化物半導體場效電晶體 |
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10 µm制程是半导体制造制程的一个水平,大约于1971年左右达成。[1][2] 这一制程由当时领先的半导体公司如英特尔所完成。
具有10微米制程的产品
[编辑]- 于1971年推出的Intel 4004CPU使用这个制程。[3]
- 于1972年推出的Intel 8008CPU使用这个制程。[3]
参考资料
[编辑]- ^ Mueller, S. Microprocessors from 1971 to the Present. informIT. 2006-07-21 [2012-05-11]. (原始内容存档于2015-04-27).
- ^ Myslewski, R. Happy 40th birthday, Intel 4004!. TheRegister. 2011-11-15 [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27).
- ^ 3.0 3.1 History of the Intel Microprocessor - Listoid. [2015-04-19]. (原始内容存档于2015-04-27).
外部链接
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